法元 盛久
Morihisa Hoga
経歴
1974年 早稲田大学理工学部物理学科卒業
1974年 （株）日立製作所入社
2000年 大日本印刷（株）入社
2016年 大日本印刷（株）定年退職
2018年 産業技術総合研究所サイバーフィジカルセキュリティ研究センター招聘研究員
2022年 産業技術総合研究所退職
2023年 派遣職員として産業技術総合研究所サイバーフィジカルセキュリティ研究センターに勤務
専門は 微細加工。特に、電子線リソグラフィ、ナノインプリント、半導体フォトマスク、など。
論文業績 (代表的な5件)
- M. Hoga, K. Itoh, N. Kuwahara, M. Fukuda, N. Toyama, S. Kurokawa, and T. Doi; “Comparison of quartz and silicon as a master mold substrate for patterned media UV-NIL replica process” Microelectronic Engineering, Vol.88, Issue 8, p1975~1977 (2011)
- M. Hoga, M. Ishikawa, N. Kuwahara, T. Takikawa, and S. Sasaki; “Development of Nanoimprint Mold Using JBX-9300FS” Jeol News Vol.44, No1, p46～51 (2009)
- T. Matsumoto, N. Yoshida, S. Nishio, M. Hoga, Y. Ohyagi, N. Tate, and M. Naruse, “Optical nano artifact metrics using silicon random nanostructures”, Sci. Rep. 6, 32438 (2016)
- M. Naruse, M. Hoga, Y. Ohyagi, S. Nishio, N. Tate, N. Yoshida, and T. Matsumoto, “Eigenanalysis of morphological diversity in silicon random nanostructures formed via resist collapse”, Physica A, 462, p883-888 (2016)
書籍
- 田辺，竹花、法元；「フォトマスク：電子部品製造の基幹技術」東京電機大学出版局(2011年4月20日第1版）
- 田辺，竹花、法元；「入門フォトマスク技術」工業調査会（2006年12月15日初版)
- 田辺，竹花、法元；「フォトマスク技術のはなし」工業調査会（1996年8月9日初版）
受賞歴
- 2016年 SEMI JRSC Honor Award
- 2015年 日本印刷学会 研究発表奨励賞
- 2012年 フジサンケイビジネスアイ 先端技術大賞
- 2000年 SPIE/BACUS Symposium, Best Poster Paper Award