鳥海 実
Minoru Toriumi
経歴
1984年 東京工業大学大学院修了
1984年 株式会社日立製作所 入社 g線からKrFレジストの研究開発に従事
2002年 株式会社ダイキン工業 入社 主幹研究員としてF2、ArFレジストの研究開発に従事
2004年 大阪大学大学院工学研究科応用物理学専攻 特任教授としてレジスト評価手法などの基礎研究に従事
2006年 境界科技研を起業 半導体関連企業および化学材料企業などを顧客とし、半導体材料およびプロセスに関して研究開発を指導すると共に半導体用レジスト及びその評価手法の研究に従事。
2021年 産業技術総合研究所 サイバーフィジカルセキュリティ研究センター ハードウェアセキュリティ研究チーム 客員研究員
その間、
2012年-2014年 株式会社EUVL基盤開発センターおよび株式会社先端ナノプロセス基盤開発センターにて、EUVレジストの開発などに従事。
2014年-2021年 東京理科大学赤外自由電子レーザー研究センターにて、客員研究員として、アブレーション実験装置の立ち上げと研究に従事。
専門は 半導体用レジスト材料、微細加工技術。
論文業績 (代表的な5件)
- M. Toriumi, T. Kawasaki, M. Araki, T. Imai, and K. Tsukiyama, ” Wavelength Dependence of Poly(p-hydroxystyrene) Ablation by Mid-Infrared Free-Electron Laser” Journal of Photopolymer Science and Technology, Vol. 32, Issue 2, p189~193 (2019).
- M. Toriumi, T. Kawasaki, T. Imai, and K. Tsukiyama, J. J. Santillan, and T. Itani, ”Characterization of metal resist for EUV lithography using Infrared free electron laser” Proceedings of SPIE, Vol.10586, p1058613-1~1058613-8 (2018).
- M. Toriumi, Y. Sato, M. Koshino, K. Suenaga, and T. Itani, “Metal resist for extreme ultraviolet lithography characterized by scanning transmission electron microscopy” Applied Physics Express, Vol.9, Issue 3, p031601-1~031601-4 (2016).
- M. Toriumi, and T. Itani, “Inhomogeneity of photoacid generators in methacrylate-type EUV resist film studied by molecular dynamics simulations” Japanese Journal of Applied Physics, Vol.54, Issue 6S1, p06FE02-1~06FE02-7 (2015).
- M. Toriumi, “Theoretical analysis of energy degradation of electron in the resists” Proceedings of SPIE, Vol.7273, p72732X-1~72732X-6 (2009).
書籍
- 鳥海共著、岡崎信次編；「金属含有型レジスト材料技術：半導体微細パターニング」NTS (2017年4月10日初版）
- 鳥海共著、東木達彦監修；「QCM法による液浸用レジストの評価：液浸リソグラフィのプロセスと材料」CMC出版（2006年10月31日初版）
- 鳥海共著、山辺正顕監修；「レジスト材料：フッ素系材料の応用技術」CMC出版（2006年6月30日初版）
- 鳥海共著；「液浸レジスト：最新レジスト材料ハンドブック」情報機構（2005年9月29日初版）
- 鳥海共著、山中寛城編集；「レジスト材料：フッ素化学入門」三共出版（2004年3月1日初版）