ナノ人工物メトリクスの研究Research on Nano-artifact Metrics (NAM)

付加価値の高い製品や部品の偽物が流通すると正規のベンダやユーザが不利益を被るなどサプライチェーンに混乱が生じます。唯一無二で同じものを作成するのが物理的に困難なタグを作ることができれば、これを保護したい商品に貼付することで偽物の流通を防いだり検出したりすることができます。そのようなタグの候補として、半導体製造工程でのバラツキに起因するプロセスを用いて、ナノスケールのランダムなパターンを形成するナノ人工物メトリクス（NAM)技術の開発を進めています。試作品はシリコンあるいは石英といった非常に安定した材料で形成されていて、チップ形状で各種の製品・部品への実装が容易です。

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試作したNAMパターンを評価するために分析環境を整備しました。写真に示すのは、光学画像を取得する装置（図1）、NAMパターンのナノスケールの観察を行う装置（図２）、大量のNAMチップを実装試作すた装置（図３）です。

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論文リスト

  • T. Matsumoto, M. Hoga, Y. Ohyagi, M. Ishikawa, N. Naruse, K. Hanaki, R. Suzuki, D. Sekiguchi, N. Tate, M. Ohtsu, “Nano-artifact metrics based on random collapse of resist”, Sci. Rep. 4, 6142 (2014)
  • T. Matsumoto, N. Yoshida, S. Nishio, M. Hoga, Y. Ohyagi, N. Tate, and M. Naruse, “Optical nano artifact metrics using silicon random nanostructures”, Sci. Rep. 6, 32438 (2016)
  • Hiro Nodaka, Ami Tezuka, Hiroyuki Kuwae, Kosuke Yamada, Morihisa Hoga, Haruo Shimamoto, Shuichi Shoji, and Jun Mizuno、“QFP/quartz adhesive bonding with surface treatment for physical security of edge artificial intelligence devices”, Transactions of The Japan Institute of Electronics Packaging, Vol.13, E20-008-1-E20-008-4 (2020)